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貨號 | 品名 | 描述 | 規格 |
76000 | ibidi微光刻照射系統 | ibidi Micro Illumination System: ibidi Micro Illumination System, External Power Supply, Mask Holder, Slide Holder, Dish Holder, Demo mask | 1套 |
ibidi微光刻照射系統(ibidi Micro Illumination System)
一站式微加工紫外光照射平臺
? 緊湊型臺式系統：可直接配合蓋玻片腔室（如μ-Slides和μ-Dishes）使用。
? 兼容濕實驗室環境：無需潔凈室。
? 用戶友好且通用：適用于各類微結構制備應用。
應用
ibidi微光刻照射系統是一款緊湊、易用的臺式平臺，將光誘導微加工技術帶入日常實驗室，徹底擺脫了對潔凈室的依賴。該系統兼容μ-Slides和μ-Dishes等蓋玻片載具，支持包括光圖案化 (Photopatterning)、水凝膠微結構制備和光點擊化學在內的廣泛2D和3D實驗方法。用戶可以精確控制細胞貼壁、遷移和組織形成的時間與空間位置，從而構建出具有生理相關性的體外微生理模型。
? 光圖案化：高精度表面圖案可引導細胞行為。通過空間受控的表面功能化或蛋白圖案，定義細胞的貼壁與遷移行為。
? 光誘導創傷：在匯合單層細胞中光誘導生成無細胞區，用于傷口愈合及細胞遷移研究。
? 光點擊化學：實現化學反應的空間與時間控制。
? 采用正性或負性光刻膠的光刻(Photolithography)與軟光刻(Soft lithography)技術。
? 對光交聯水凝膠和生物墨水（如：甲基丙烯酸明膠 (GelMA)、膠原蛋白、透明質酸或PEG-DA、PEG-NB）進行光聚合，以構建特定的2D/3D微架構。
? 利用365 nm光引發劑（如：Irgacure, LAP）對塊狀材料或表面進行光誘導結構化。
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技術特點
? 配備高準直性的365 nm LED，提供大面積均勻的紫外光照射區域，實現清晰的圖案轉移。
? 光線從樣品下方進行紫外照射，非常適合與蓋玻片底部的實驗器皿（如μ-Slides和μ-Dishes）使用。
? 占地面積小的臺式系統——無需任何外部設備或基礎設施。
? 直觀易用的操作——無需安裝任何軟件或連接電腦界面。
? 靈活的應用——適用于各種多功能的微結構制備。
光罩兼容性
? 支持標準的3英寸光罩(photomasks)，適用于各種圖案化應用。
集成安全蓋
? 配備安全蓋和安全鎖定機制，確保操作安全。
兼容濕實驗室環境
? 專為在標準實驗室臺面使用而設計——無需潔凈室。
? 可選下壓架 (Downholders)： 最大限度縮小光罩與樣品之間的間隙，從而獲得最佳的分辨率和圖案轉移效果。
? 可選孔板插片 (Well Inserts)： 減少開放式μ-Slides的樣品體積并降低彎液面效應，提高圖案化的一致性。
? 提供適用于ibidi μ-Slides和μ-Dishes的即用型光罩模板。
? ibidi微光刻照射系統隨附一張演示光罩(photomasks)，方便您針對具體的實驗應用進行簡單的概念驗證(proof-of-concept)實驗。
什么是ibidi微光刻照射系統？ 微光刻照射系統利用高度準性的紫外光(365 nm)來引發光敏化學反應，從而實現材料在微米尺度上的精確結構化與圖案化。
該系統的技術配置是怎樣的？ 該系統采用倒置式配置：紫外光從下方穿過光罩（Photomask）投射到樣品（如μ-Slides或μ-Dishes）上，實現空間受控的聚合、交聯或表面功能化。 | 這是個動態圖 | |
光誘導化學的原理是什么？ 紫外光（365 nm）被用于在各種物理、化學和生物應用中引發化學反應。通過使用光罩，可以在特定區域阻擋光線，從而限制化學反應僅在需要的地方發生。對于表面結合反應，此過程可創建二維（2D）圖案；而對于塊狀材料（如可光交聯的水凝膠）中的反應，則可形成三維（3D）結構。 |
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紫外誘導化學反應的操作流程是怎樣的？
ibidi微光刻照射系統通過幾個簡單的步驟簡化了微加工過程：
1. 首先準備好實驗器皿；
2. 插入光罩并將實驗器皿放入系統中，啟動照射過程；
根據需要對樣品進行后續處理（如清洗、包被或其他精加工）。 您的定制微結構表面現已準備就緒，可以投入使用。
1. 放入光罩與光罩支架 將標準3英寸光罩放入光罩支架中，然后將其插入儀器內。 | 2. 將樣品放置在光罩上并開始曝光 靈活的定位方式允許您將樣品直接放置在光罩上。合上儀器蓋后，根據您的特定需求設置曝光參數，即可啟動曝光過程。 | |
3. 可選：使用μ-Slides和μ-Dishes定位引導 使用μ-Dish和μ-Slide專用支架，可以引導樣品放置，從而在光罩上實現快速、準確且可重復的定位。 | 4. 可選：使用下壓架(Downholders)最小化間隙 針對μ-Slides，可以使用專用的下壓架配合儀器內置的緊固件，將樣品輕柔地壓在光罩上。這種組合方式可以減小樣品與光罩之間的空氣間隙，從而獲得最佳的曝光效果。
注：μ-Slide專用下壓架屬于可選附件，需另行購買。請參考下表獲取產品貨號及更多信息。 |
5. 可選：使用孔板插片(Well Inserts)減少體積并消除彎液面效應 針對μ-Slide的專用孔板插片可顯著減少開放式孔（μ-Slide 2、4和8孔載玻片）中的樣品體積并消除彎液面現象。這有助于節約珍貴的試劑，并最大程度地減少因彎液面曲率導致的潛在偽影。
注：孔板插片屬于可選附件，需另行購買。請參考下表獲取產品貨號及更多信息。 |
微光刻照射系統有哪些優勢？
ibidi微光刻照射系統將微加工技術帶入了每一個實驗室——既經濟又易于獲取。它填補了3D打印與昂貴的潔凈室光刻機之間的空白，能夠為各類細胞培養實驗快速制備樣本。因此，ibidi微光刻照射系統具有以下特點：
? 高效性 – 樣本制備快速且經濟，設置流程極簡。
? 多功能性 – 365 nm紫外光支持廣泛的光圖案化和微加工應用。
? 靈活性 – 緊湊的臺式系統，，適合在細胞培養室、濕實驗室甚至超凈工作臺內使用。
? 易用性 – 操作簡單，曝光時間和強度均可調節——無需任何軟件或編程
? 可重復性 – 提供高精度、均勻的曝光，確保實驗結果一致可靠。
這是個動態圖 通道內通道結構：利用ibidi微光刻照射系統及光交聯PEG-降冰片烯（PEG-NB）水凝膠，在μ-Slide I 0.4 Luer中制備而成。通過注入藍色食用色素，可清晰觀察到特斯拉閥（Tesla valve）形狀的水凝膠通道。 | 流體障礙物：利用ibidi微光刻照射系統在GelMA水凝膠中制備出流體障礙物。通過對梯形障礙物進行交聯并接種人臍靜脈內皮細胞（HUVEC），模擬了帶有流道收縮的血管模型。（完整方案請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 74） |
微圖案化實驗： 在帶有PLL-PEG鈍化的μ-Dish 35 mm (high ibiTreat)中使用ibidi微光刻照射系統創建。圖案為直徑 200 μm、間距1500 μm的圓形，并使用熒光標記纖連蛋白（HiLyte 647，紅色）進行可視化。左圖：μ-Dish整個生長區域概覽。中圖：圖案化表面的細節視圖。右圖：接種在圖案上的MDA-MB-231細胞，在接種后2小時內顯示出對特定幾何形狀的精準貼壁。（完整方案請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 73）
SU-8光刻膠母版：使用ibidi微光刻照射系統創建的帶有結構化SU-8光刻膠層的3英寸硅晶圓片掃描電子顯微鏡（SEM）圖像，作為微觀結構的PDMS母模。黃色標注表示這些結構的直徑和中心間距，藍色標注則標示了它們的長寬比。（完整方案請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 75） | 這是個動態圖 內皮細胞遷移：在μ-Slide VI 0.4 中，內皮細胞（HUVECs）在10 dyn/cm2的剪切應力下培養3天，隨后通過ibidi微光照射系統進行紫外線照射，制造出一條450 μm寬的“光學創傷”區域。恢復灌流后，通過10小時的延時攝影觀察到細胞從兩側向中心遷移并閉合缺口，最終恢復為單層匯合狀態。（完整方案請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 76） |
大鼠成纖維細胞遷移：對大鼠成纖維細胞進行“光學創傷”處理。通過ibidi微光照射系統對200 μm的特定區域進行光照，導致該區域活細胞被去除。在24小時內，遷移的細胞重新填滿了受損區域，并形成了新的匯合單層。（完整方案請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 76）
這是個動態圖 NIH-3T3細胞球形成： 細胞接種于μ-Slide VI 0.4通道內200 μm的RGD圖案上，在40小時內形成球狀體。這些圖案均由ibidi微光刻照射系統生成。（完整方案請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 72） | 水凝膠微加工：利用ibidi微光照射系統，直接在μ-Slide VI 0.4中將含有可剪切多肽序列的PEG-NB水凝膠進行交聯加工。圖中為偽彩色顯示（原凝膠顏色為黃色，此處顯示為粉色）。（更多信息請參閱“Self-organized homogenization of flow networks”）。圖片來自Charlott Leu, Soft Matter Physics, LMU, Munich. |
借助微光刻照射系統和您自制的光罩，您可以創建專為您的科研量身定制的精確2D和3D微環境。它使您能夠在預期的位置以預期的方式，實現空間受控的聚合、交聯或表面功能化。
1. 下載合適的模板。（請在“實驗應用”欄目下方的適用于μ-Slides和μ-Dishes的光罩模板處下載模板文件。） 2. 設計階段：使用掩模版布局軟件（如LayoutEditor、KLayout或類似工具）進行設計。如需指導，請參考“實驗應用”欄目中的文檔Application Note 81: Photomask Layout Creation for the ibidi Micro Illumination System (PDF)，其中提供了使用KLayout的分步操作流程。 3. 訂購階段：按照說明書中提供的規格，向您選擇的供應商訂購光掩模。
資源輔助：ibidi提供模板文件以幫助您創建自己的光罩設計。這些.GDS文件包含了所有必要的圖層，涵蓋了光罩布局以及μ-Slide的有效孔板或通道區域。 | 請在“實驗應用”欄目下方的適用于μ-Slides和μ-Dishes的光罩模板處下載模板文件。 |
ibidi演示光罩的布局
隨系統提供的μ-Slide 8 Well high八孔高壁腔室載玻片演示光罩的幾何形狀：cir = 圓形，sqr = 正方形，lin = 線條，pit = 間距。所有數值單位均為微米(μm)。
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可選配件 | 下壓架(Downholders) | |||||||||||||||||||||||||||||||
| 下壓架 (Downholders)：下壓架通過減小光罩表面與μ-Slide之間的距離，實現近距離紫外曝光，從而確保最佳的實驗結果。這些μ-Slide專用下壓架屬于可選附件，需另行購買。請查閱上表獲取對應的產品貨號。
這是個動態圖
孔板插片(Well Inserts)：μ-Slide專用孔板插片可減少開放式孔板（μ-Slide 2, 4, 8 Well high）的體積并減少彎液面的形成。這些插片有助于節省珍貴的試劑，并最大程度地減少由彎液面效應引起的潛在偽影。孔板插片屬于可選附件，需另行購買。請查閱上表獲取對應的產品貨號。
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理論上，在理想條件下，該系統的衍射極限標稱分辨率為2 μm。所謂“理想條件”是指：光罩與化學反應面直接接觸、化學反應層極薄，且化學反應瞬時完成且無擴散現象。但在實際實驗設置中，為了獲得更穩定的結果，我們建議設計的特征尺寸>10 μm。
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